Entwicklung von abriebfesten, wasser- und chemikalienbeständigen Beschichtungsmaterialien auf Basis des Sol-Gel-Prozesses für Polymethylmethacrylat (PMMA) und verfahrenstechnische Anpassung der Systeme an einen Vakuumtiefziehprozess
- In dieser Arbeit sollen ausgehend von einem Modellsystem notwendige Modifizierungen in Bezug auf die Zusammensetzung des Beschichtungsmaterials zum Erreichen einer abriebfesten, wasser- und chemikalienbeständigen Beschichtung auf Basis des Sol –Gel -Prozesses für PMMA untersucht werden. Zur Erzielung hoher Abriebbeständigkeit soll der Einfluss nanoskaliger Partikel auf die Abriebbeständigkeit untersucht werden. Das Auslaufverhalten des Wassers bzw. die Reinigungsfähigkeit der Wanne soll durch eine niedriege Oberflächenenergie erreicht werden, wozu der Einbau perfluorierter Silane in die Kompositmatrix untersucht wird. Im Anschluss soll eine Anpassung des Systems an die Prozesstechnik des Vakuumverformens durchgeführt werden. Dazu ist sowohl der Aufbau und die Konzeption einer Labortiefziehanlage, wie auch Untersuchungen zur kontrollierten Polymerisation des Ausgangssystems notwendig. Das Ziel ist die Entwicklung eines tiefziehfähigen abriebfesten Beschichtungssystems, welches sich exemplarisch an einer Labortiefziehanlage verformen und aushärten lässt.
Document Type: | Doctoral Thesis or Habilitation |
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Author: | Stefan Sepeur |
URN: | urn:nbn:de:bsz:291:415-5629 |
DOI: | https://doi.org/10.22028/D291-37742 |
Pagenumber: | 173 S. |
Place of publication: | Saarbrücken |
Faculty: | NT - Naturwissenschaftlich- Technische Fakultät / Chemie |
Referee: | Rolf HempelmannORCiD |
Advisor: | Rainer Kasemann |
Language: | German |
Year of first Publication: | 2001 |
Date of final exam: | 2001/12/13 |
Contributing Corporation / Conference: | INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien |
Release Date: | 2023/03/29 |
Tag: | Beschichtungsstoff; Polymethylmethacrylate; Sol-Gel-Verfahren; Tiefziehen; Vakuumtechnik |
DDC classes: | 500 Naturwissenschaften und Mathematik / 540 Chemie |
Open Access: | Open Access |
Signature: | Diss 2001 Sepeur |
Licence (German): | ![]() |